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广州南砂晶圆半导体技术取得交流电阻加热器及SiC单晶
生长
装置专利,提高晶体
生长
速度且有助于4H‑SiC晶型稳定
【IFWS2024】 碳化硅衬底、外延
生长
及其相关设备技术分会日程公布
长光华芯“半导体材料
生长
速率的测试方法”专利获授权
IFWS2024:氮化物衬底、外延
生长
及其相关设备技术分会日程出炉
镓仁半导体:铸造法成功
生长
超厚6英寸氧化镓单晶!
标准 | 碳化硅单晶
生长
用等静压石墨等2项技术标准形成委员会草案
江苏集芯申请大尺寸碳化硅晶体
生长
坩埚及
生长
装置专利,保证晶体中心位置和外侧边缘的
生长
速率相一致
长宇科技取得一项外延
生长
基盘用高均质性特种石墨材料的制备方法专利,能够保持产品制备的稳定性
富加镓业年产10000片6英寸氧化镓单晶及外延片
生长
线开工
河北同光半导体取得SiC专利,实现将源于
生长
区石墨件腐蚀引起的包裹物分布控制在晶体边缘
瀚天天成“一种降低碳化硅外延片
生长
缺陷的方法及碳化硅衬底”专利获授权
晶盛机电:12英寸硅减压外延
生长
设备顺利实现销售出货,ALD设备处于验证阶段
北方华创“碳化硅晶体
生长
装置”专利公布
北京理工大学团队在杂化范德华外延
生长
研究方向取得重要突破
标准 | 赛迈科牵头2项SiC单晶
生长
用等静压石墨标准征求意见
标准 | 赛迈科牵头2项SiC单晶
生长
用等静压石墨标准征求意见
CASICON晶体大会前瞻|北京化工大学张纪才:(11-22)AlN材料的HVPE
生长
及其二极管制备研究
CASICON晶体大会前瞻|西安交通大学王若铮:MPCVD法
生长
英寸级单晶金刚石的相关机理探讨
晶盛机电:在功率半导体领域,先后成功研发8英寸及12英寸常压硅外延
生长
设备并实现销售
科学家提出倾斜台阶面外延
生长
菱方氮化硼单晶方法
厚度达100 mm! 碳化硅单晶
生长
取得新进展
厦门大学康俊勇教授团队:人工智能无损表征技术,助力SiC晶体
生长
CASA立项《碳化硅单晶
生长
用等静压石墨》标准
实验室成功
生长
出8英寸碳化硅单晶、2024年度科研资金超百亿元
天岳先进:持续进行碳化硅单晶基础研究以提高晶体
生长
效率和质量
昆明理工大学在溶液法
生长
高纯3C-SiC晶体研究方面取得进展
电子科技大学氮化物宽禁带半导体晶体
生长
系统配件与制备耗材采购项目竞争性磋商采购公告
中科院物理所陈小龙团队:晶圆级立方碳化硅单晶
生长
取得突破
中国科学院
物理研究所
陈小龙
异质籽晶
同质籽晶
生长
4H-SiC 中基面位错滑移带表征和外延传播
4H
SiC
晶体缺陷
晶体生长
北京大学教授于彤军:大尺寸AlN单晶
生长
研究
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