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1万伏!我国实现6英寸AlN
单晶
复合衬底和晶圆制造全流程突破
镓仁半导体:铸造法成功生长超厚6英寸氧化镓
单晶
!
上海微系统所成功开发面向二维集成电路的
单晶
金属氧化物栅介质晶圆
晶钻科技同质外延
单晶
金刚石新突破
西安交大刘明教授团队在柔性自支撑反铁电氧化物
单晶
薄膜研究方面取得新进展
科学家提出倾斜台阶面外延生长菱方氮化硼
单晶
方法
厚度达100 mm! 碳化硅
单晶
生长取得新进展
碳化硅
单晶
衬底的常用检测技术
中科院物理所陈小龙团队:晶圆级立方碳化硅
单晶
生长取得突破
中国科学院
物理研究所
陈小龙
异质籽晶
同质籽晶
生长
新进展!西安交通大学实现2英寸
单晶
金刚石异质外延自支撑衬底量产
金刚石
半导体
MPCVD
异质外延
2英寸
量产
镓和半导体展示多规格氧化镓
单晶
衬底并首次公开发布4英寸(100)面
单晶
衬底参数
中科院科学家在8英寸碳化硅
单晶
研制中获进展
世界最好水平!奥趋光电推出新一代超高透过率AlN
单晶
衬底
中国科大制备出高效稳定的钙钛矿
单晶
LED
简述HVPE 法 GaN
单晶
掺杂研究新进展
简述SiC碳化硅
单晶
的生长原理
重要发现!3C-SiC有望PK
单晶
金刚石,成为高导热材料的选择
4英寸氧化镓
单晶
生长与性能分析
碳化硅
单晶
薄膜制备技术及集成光子应用技术进展
西安交大王宏兴教授团队在
单晶
金刚石衬底技术产业化上取得重大进展
冯志红团队在(001)
单晶
金刚石上制备了具有同质外延层的金刚石FET
碳化硅
单晶
衬底加工技术现状及发展趋势综述
山东大学与南砂晶圆团队实现了高质量8英寸导电型4H-SiC
单晶
和衬底制备
山东大学
晶体材料
4HSiC
衬底
8英寸
技术分享:基于氮化镓
单晶
衬底的增强型氮化镓HEMTs
上海微系统所信息功能材料国家重点实验室团队发布碳化硅
单晶
薄膜制备技术及集成光子应用综述
浙江大学50 mm厚6英寸碳化硅
单晶
生长获得成功
GaN
单晶
衬底减薄新技术
中科院物理所在8英寸碳化硅
单晶
研究取得新进展
苏州大学揭建胜教授团队提出有机半导体
单晶
薄膜制备新方法,迁移率变异系数仅9.8%
中科院化学所在印刷制备单一取向有机半导体
单晶
阵列方面取得进展
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