方志来:P型氮掺杂β-
2840
黄洪:单晶氧化镓深紫
3140
黎明锴:基于二氧化锡
2370
吴征远:极高响应度与
1800
程其进:氧化镓基日盲
2480
王浩敏:厚层六角氮化
1690
刘增:Strategies of
2060
龙世兵:超宽禁带氧化
3430
朱昱豪:基于氮化镓金
2680
汪洋:半导体用SiC涂
1650
皮孝东:半导体碳化硅
1510
袁昊:万伏级4H-SiC基
2190
陆海:面向复杂电气应
4470
刘婷:Suppression of
780
化梦媛:常关型 GaN P
2080
马骋:硅基氮化镓外延
2440
朱广润:微波毫米波器
2330
刘建勋:大尺寸硅基Ga
2660
马晓华:面向终端应用
2540
冯志红:氮化镓高功率
3810