徐现刚:碳化硅单晶衬
5300
徐科:氮化镓单晶材料
3600
蒋科:宽禁带氮化物半
1080
朱海:宽禁带半导体微
900
陆文强:一维ZnGa2O4
370
张文辉:升华法生长β
1090
陈凯:基于MPCVD法异
2160
穆文祥:氧化镓单晶生
750
汤潇:全溶液法沉积柔
1760
张逸韵:高温气氛退火
780
唐宁:氮化镓量子阱中
1710
徐童龄:基于NiO/β-
640
张亚民:基于脉冲信号
820
刘红辉:光照下AlGaN/
1690
陈鹏:GaN基肖特基功
3130
吴帆正树:碳化硅沟槽
1230
叶建东:氧化镓基双极
3300
李忠辉:新型Al(Ga)N/
2090
李天义:SiC紫外单光
1590
杨伟锋:碳化硅(4H-Si
3340