等离子刻蚀技术在第三代化合物半导体领域的应用Application of Plasma Etching Technology in the Third-generation Compound Semiconductor Field谢秋实北京北方华创微电子装备有限公司 第一刻蚀事业部副总经理XIE QiushiDeputy General Manager of NAURA Technology Group Co., Ltd.

化合物半导体工艺设备解决方案 Equipment and Processes Solutions in Compound Semiconductor王显刚北京北方华创微电子装备有限公司LED及化合物半导体行业发展部总经理WANGXiangangGeneral Manager ofLED and Compound Semiconductor Developmentdepartment, Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co.,ltd.

北京北方华创微电子装备有限公司产品总监董博宇带来了《磁控溅射制备的ITO薄膜在LED领域中的开发及应用》主题报告。

北方华创全面展示为集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、微机电系统、化合物半导体、平板显示、新能源光伏等尖端领域量身定做的ETCH、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean、MFC等高端半导体工艺装备及核心零部件，助力芯片制造商实现芯梦想，引领科技走进芯生活。

北京北方华创微电子装备有限公司第一刻蚀BU副总经理刘利坚介绍了LED工业中的干法刻蚀工艺技术和关键设备。刘利坚长期以来从事高端微电子装备设计开发工作，对于等离子体刻蚀和PECVD设备的硬件设计和工艺应用有丰富经验。刘利坚介绍了等离子刻蚀的一些技术问题，并具......