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南大光电:已建成年产5吨
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干式光刻胶生产线
盛美上海首台前道
ArF
工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机
上海新阳光刻胶
ArF
、
ArF
-i研发进展顺利,样品已送测
南大光电:
ArF
光刻胶验证工作
格科半导体成功引入ASML先进
ArF
光刻机
格科微临港12吋CIS项目迅速推进,ASML先进
ArF
光刻机正式搬入
格科半导体ASML先进
ArF
光刻机成功引入,12英寸CIS芯片项目推进迅速
住友化学将在韩国建厂生产
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光刻胶 预计2024财年投产
预计2024财年投产,住友化学将在韩国建厂生产
ArF
光刻胶
自筹7亿元 彤程新材研发
ArF
高端光刻胶:两年后完成
购买ASML光刻机,晶瑞电材拟投建
ArF
光刻胶研发项目
Microchip推出新型中等带宽FPGA器件,实现边缘计算系统功率和性能的飞跃
Microchip
低密度
PolarFireÒ器件
静态功耗
器件
发热区域
Microchip
Technology
Inc
华为哈勃加码光刻胶,投资华懋科技参股子公司徐州博康
华为
哈勃
光刻胶
华懋科技
徐州博康
国产
ArF
光刻胶
南大光电
ArF
光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破
南大光电:
ArF
光刻胶产品再次通过客户认证
南大光电:公司完成25吨光刻胶生产线建设 已拿到国产
ArF
光刻胶首个订单
上海新阳半导体收到ASML-1400光刻机 将用于研发193nm
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光刻胶
上海
新阳半导体
ASML-1400
光刻机
193nm
ArF
光刻胶
南大光电自主研发第一只国产
ArF
光刻胶通过验证
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