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上海积塔半导体申请半导体结构相关
专利
,避免因相邻膜层刻蚀选择比过大形成底切结构
智芯微“光刻胶均匀覆盖晶圆表面的仿真方法”
专利
公布
士兰微“MEMS微镜及其制备方法”
专利
获授权
福建平潭瑞谦智能科技取得一种用于半导体模块封装的视觉检测设备
专利
河北同光半导体取得SiC
专利
,实现将源于生长区石墨件腐蚀引起的包裹物分布控制在晶体边缘
士兰微“功率封装结构及其引线框”
专利
获授权
扬杰科技申请一种改善双极退化的碳化硅 MOSFET 器件及制备方法的
专利
盛合晶微半导体(江阴)申请 3D 垂直互连封装结构及其制备方法
专利
,实现高密度封装
华羿微电取得一种宽 SOA 屏蔽栅 MOSFET 器件及制备方法
专利
,提升器件整体的 SOA
江苏能华微取得 GaN 肖特基二极管相关
专利
,有效提高了 GaN 肖特基二极管的性能
中图科技申请一种高深度微结构图形化半导体衬底及其制备方法
专利
西安奕斯伟材料申请用于外延设备的处理方法
专利
苏州科阳半导体取得晶圆封装相关
专利
武汉凡谷获得实用新型
专利
授权:“天线振子及天线”
瀚天天成“一种降低碳化硅外延片生长缺陷的方法及碳化硅衬底”
专利
获授权
苏州晶湛半导体取得半导体结构及其形成方法
专利
,提高半导体外延层的性能
武汉凡谷取得用于两端面形状不同的杆类部件的正反向识别输送装置
专利
河北博威集成电路取得集成 SBD 的碳化硅 MOSFET 器件及其制备方法
专利
河北同光半导体取得超高真空碳化硅原料合成炉系统
专利
积塔半导体“基于TDDB优化的MOSFET器件及其制备方法”
专利
公布
福建泓光半导体材料取得一种光刻胶自动过滤装置
专利
,提高工作效率
北方华创“碳化硅晶体生长装置”
专利
公布
利普思半导体“一种功率模块结构”
专利
公布
捷捷微电取得降低开关损耗的分离栅MOSFET器件及其制造方法
专利
,降低了开关损耗
豪纬集团申请一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法
专利
,有效提高微纳结构中有源层的发光效率
粤芯半导体“一种半导体器件中的互连金属的沉积方法”
专利
获授权
粤芯半导体“一种半导体器件中的互连金属的沉积方法”
专利
获授权
华羿微电“新型功率MOSFET器件及其制备方法”
专利
获授权
华羿微电“一种低栅极电荷屏蔽栅MOSFET器件及其制作方法”
专利
获授权
华羿微电申请高性能 MOSFET 功率器件外延设计结构
专利
,降低功率器件制造成本
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