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粤芯半导体申请光刻机对准方法专利，平衡晶圆中切割道与芯片的研磨速率
 评论 ⋅  2024-10-31 17:11
中芯国际申请光刻机焦距监控相关专利，实现在线焦距监控且对产品晶圆图形影响小
 评论 ⋅  2024-10-28 16:37
尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机
 评论 ⋅  2024-10-25 17:09
工信部推广国产DUV光刻机，最小套刻精度≤8nm
 评论 ⋅  2024-09-19 11:58
冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机
 评论 ⋅  2024-07-17 16:58
三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机
 评论 ⋅  2024-06-19 18:34
光刻机制造商ASML扩建计划获表决通过
 评论 ⋅  2024-06-12 16:31
俄罗斯首台光刻机制造完成：可生产350纳米工艺芯片
 评论 ⋅  2024-05-27 08:59
宜兴中车时代中低压功率器件项目首台光刻机搬入
 评论 ⋅  2024-05-13 11:35
ASML High-NA EUV光刻机取得突破，成功印刷10nm线宽图案
 评论 ⋅  2024-04-18 16:59
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂
 评论 ⋅  2024-04-18 16:53
中荷双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见
 评论 ⋅  2024-03-28 15:43
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
 评论 ⋅  2024-03-14 17:37
盛美上海：光刻机的购入选择,KrF-line是首要目标
 评论 ⋅  2024-01-31 17:46
ASML：多款光刻机2024年将不会获得对华出口许可
 评论 ⋅  2024-01-25 10:16
美国施压要求荷兰停止向中国出口某型号光刻机 外交部回应
荷兰光刻机阿斯麦禁令
 评论 ⋅  2024-01-02 17:31
全球半导体设备五强酝酿大变局
芯片EUV光刻机ASML半导体设备
 评论 ⋅  2023-12-27 11:07
盛美上海：Track设备预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试
 评论 ⋅  2023-12-21 14:21
俄罗斯明年开始生产光刻机！
 评论 ⋅  2023-11-06 09:10
ASML在中国的光刻机加上量测的机台近1400台！
 评论 ⋅  2023-11-03 09:43
清溢光电；佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机
 评论 ⋅  2023-10-19 14:40
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造设备
 评论 ⋅  2023-10-10 16:30
中国半导体进口创新高！狂买荷兰光刻机
 评论 ⋅  2023-08-28 11:00
清溢光电上半年光刻机入场 拟15亿扩产半导体掩模版
 评论 ⋅  2023-08-25 16:59
日本与荷兰签署半导体合作备忘录，采购ASML光刻机推进2nm工艺
 评论 ⋅  2023-06-26 15:56
东南大学微纳系统国际创新中心电子束光刻机采购招标公告（第三次）
 评论 ⋅  2023-04-17 17:59
南京航空航天大学无掩模版直写光刻机采购公开招标公告
 评论 ⋅  2023-03-29 13:52
国产光刻机再突破后，能实现7nm芯片量产？
 评论 ⋅  2023-03-01 09:42
外交部回应荷兰对华停止出售光刻机 希望各方独立自主地作出决定
 评论 ⋅  2023-01-31 17:31
天津大学精仪学院无掩膜光刻机更正公告
 评论 ⋅  2023-01-04 16:27
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