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新进展!西安交通大学实现2英寸单晶金刚石
异质外延
自支撑衬底量产
金刚石
半导体
MPCVD
异质外延
2英寸
量产
厦门大学张洪良和上海光机所齐红基团队在深紫外透明导电Si掺杂氧化镓
异质外延
薄膜研究取得进展
北京大学许福军、沈波团队实现了接近体块级质量的III族氮化物
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宽禁带半导体
简述Ir衬底上金刚石半导体
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生长技术与机理研究进展
玻璃衬底上首次“
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”出准单晶氮化镓薄膜
玻璃衬底
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