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Nature Photonics | 基于深紫外microLED显示的无掩膜光刻技术与应用示范
 评论 ⋅  2024-10-15 17:19
中科大孙海定iGaN实验室研究三维垂直集成microLED阵列实现无掩膜深紫外光刻新技术
 评论 ⋅  2024-09-30 19:58
极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本
 评论 ⋅  2024-08-02 08:56
复旦大学研发半导体性光刻胶，实现特大规模集成度有机芯片制造
 评论 ⋅  2024-07-08 13:10
九峰山实验室+华中科大联合攻关，一种新型光刻胶技术完成初步工艺验证
 评论 ⋅  2024-04-02 19:48
全球首颗！我国芯片领域取得重大突破！
芯片，存算一体，忆阻器，人工智能，自动驾驶，光刻胶
 评论 ⋅  2023-12-15 11:08
简述光刻机制造设备
 评论 ⋅  2022-12-05 15:51
华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件
 评论 ⋅  2022-11-29 13:36
EUV光刻机在3nm的新挑战
 评论 ⋅  2022-08-11 17:02
王阳元院士：关键的、核心的集成电路可以成就一个新兴企业乃至一个产业
王阳元院士集成电路摩尔定律光刻技术半导体材料
 评论 ⋅  2021-06-22 16:42
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世
 评论 ⋅  2021-06-11 10:35
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展
 评论 ⋅  2021-06-11 10:30
国内多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分产线面临断供危机
 评论 ⋅  2021-05-27 10:12
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线
 评论 ⋅  2021-03-01 09:45
绕开光刻机，华为破冰，美媒感叹：太快了
 评论 ⋅  2021-01-13 10:32
时隔7年，昔日光刻机巨头卷土重来，挑战荷兰ASML霸主地位
 评论 ⋅  2021-01-13 09:50
中科院院长白春礼：在光刻机、高端芯片等方面，集结精锐力量组织系统攻关
中科院院长白春礼光刻机高端芯片系统攻关
 评论 ⋅  2020-09-17 08:40
佳能发售半导体光刻机“FPA-8000iW”：可应对大型方形基板且解像力达1.0微米
佳能半导体光刻机FPA-8000iW大型方形基板解像力1.0微米
 评论 ⋅  2020-06-24 07:04
投资者提问：最近福建安芯半导体一台值近千万元的光刻机出货，实现了60%至7...
福建安芯半导体光刻机瑞丰基金
 评论 ⋅  2020-04-02 11:21
弘芯半导体ASML高端光刻机进场 第三家国产14nm工艺来了
弘芯半导体ASML高端光刻机国产14nm工艺
 评论 ⋅  2019-12-23 10:23
芯源微成功上市，成为中国半导体光刻设备上市“第一股”
芯源微上市中国半导体光刻设备上市第一股
 评论 ⋅  2019-12-19 10:33
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