MaM发表深圳大学刘新科团队综述文章:下一代功率器件的GaN-on-diamond技术

日期:2025-04-14 阅读:279
核心提示:近日,深圳大学刘新科团队以GaN-on-diamond technology for next-generation power devices为题在MaM上发表综述文章,详细阐述了

 近日,深圳大学刘新科团队以“GaN-on-diamond technology for next-generation power devices”为题在MaM上发表综述文章,详细阐述了氮化镓-金刚石(GaN-on-diamond)技术在下一代功率器件中的应用,系统介绍了该技术的研究现状、关键技术以及应用前景。第一作者为范康凯,通讯作者为刘新科。MaM是全球首本专注集成电路超越摩尔(泛摩尔技术)领域的英⽂期刊,已入选“中国科技期刊卓越行动计划”高起点新刊。

随着消费电子行业的迅猛发展,电子设备对高功率和高效散热的需求日益迫切。GaN材料虽具备诸多优异特性,理论上能实现超高功率密度,但实际应用中,其产生的大量热量难以有效散发,导致结温升高,严重限制了器件性能。当器件功率密度达到6 W/mm时,沟道温度可超200 ℃,极大缩短了器件寿命。而传统的硅(Si)、碳化硅(SiC)等衬底材料,因热导率有限,无法满足GaN器件的散热需求。在此背景下,具有超高热导率(2 200 W/m/K)的金刚石脱颖而出。将金刚石作为GaN器件的衬底,能显著提升散热效率,有效降低结温,增强器件的可靠性和稳定性,GaN-on-diamond技术应运而生。 

本文指出,在GaN-on-diamond结构中,金刚石的超高热导率使热量能迅速从器件有源区传导至封装散热片,有效避免局部过热。如图1所示,与传统SiC衬底相比,在相同功率密度梯度下,基于金刚石衬底的HEMTs温度上升更低,能在更高功率密度下稳定运行。理论计算表明,GaN-on-diamond界面的热边界电阻(TBR)可低至3 m²K/GW,远低于SiC衬底。这使得电子-声子耦合在该技术中发挥关键作用,促进能量高效传递,进一步降低界面热阻,提升散热效率,显著缓解自热效应。

图1 不同衬底的GaN功率器件在热性能方面的基准测试:硅基GaN[38]、碳化硅基GaN[10,38,40,41]和金刚石基GaN[39,42,43]

热边界电阻是影响GaN-on-diamond技术散热性能的关键因素。论文深入探讨了其相关影响因素,并提出多种降低热阻的创新方法。通过表面活化键合(SAB)等技术,可优化界面结构,减少缺陷,降低热阻。研究发现,采用SAB方法在室温下键合GaN和金刚石,能有效减少界面非晶碳层的形成,降低热阻。同时,引入合适的介电层也能降低热边界电阻。如选用SiN作为介电层,可在界面形成Si-C-N层,显著降低热阻,提高热导率。此外,图案化生长、纳米晶金刚石(NCD)覆盖膜以及金刚石钝化层等新技术的探索,为进一步提升热管理能力提供了新途径。

目前,GaN-on-diamond技术主要有键合和外延生长两种制备方法。使用键合技术制备的GaN-on-diamond如图2所示,键合技术通过分子间相互作用,有效缓解位错传播,但面临键合温度、界面层厚度和成分控制等挑战。在GaN背面生长金刚石的外延生长技术如图3所示,能获得连续的晶体结构,降低界面热阻,但存在高质量金刚石衬底制备困难、生长过程易引入缺陷等问题。尽管面临挑战,但研究人员不断取得进展。如通过改进SAB方法,采用混合SiOₓ-Ar离子源进行表面处理,使界面热阻降至8.3 m²K/GW。在外延生长方面,优化生长工艺和条件,能有效减少缺陷,提升器件性能。

图2 使用键合技术制备的GaN-on-diamond

图3  在GaN背面生长金刚石的外延生长技术

GaN-on-diamond技术在射频(RF)器件、功率器件和微波器件等领域展现出巨大的应用潜力。在DARPA NJTT项目中,基于金刚石衬底的GaN晶体管实现了11 W/mm的线性功率,热通量超40 kW/cm²,功率处理能力提升超三倍。未来,随着研究的不断深入,GaN-on-diamond技术有望在更多领域得到应用,推动GaN器件向更高性能、更高可靠性方向发展,为6G通信、高效电力传输等新兴技术提供坚实的硬件支持。 

图4 终极半导体金刚石可以帮助生产面向未来市场的GaN器件,促进GaN器件的广泛应用

基金支持

本研究工作得到了国家重点研发计划,广东省基础研究和应用基础研究重大项目,广东省自然科学基金杰出青年基金,深圳市科技计划项目,国家自然科学基金,苏州市基础研究计划项目的支持。

引用方式

Fan, K., Guo, J., Huang, Z. et al. GaN-on-diamond technology for next-generation power devices. Moore. More 2, 8 (2025). https://doi.org/10.1007/s44275-024-00022-z

通讯作者简介

刘新科(通讯作者):深圳大学材料学院研究员,IEEE Senior Member, 博士研究生导师,深圳大学微电子研究院院长助理。专注于GaN功率器件研究11年,以第一作者/通讯作者在国际学术期刊Materials Today、Advanced Materials、IEEE EDL/TED等发表123篇SCI论文,近5年(2020-至今)发表文章共计68篇,Google学术总引用4360次。主持国家重点研发计划项目和课题,国家自然科学基金(青年和面上),广东省自然科学基金杰出青年项目等国家,省部级项目10项。以第一发明人申请专利100项,其中授权35项中国专利和1项美国专利,实现了29项知识产权转让。作为第一完成人,获得2022年度广东省科技进步二等奖、2022年度中国电子学会科技进步奖二等奖、2023年度深圳市青年科技奖(深圳高校仅四位名额,提名人:毛军发院士)、2024年度英国皇家化学会会士(FRSC)。

(来源:Moore and More)

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