国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“一种光刻胶模型优化方法、程序产品、装置和存储介质”的专利，公开号 CN 119180203 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种光刻胶模型优化方法、程序产品、装置和存储介质，提供初始光刻胶模型，获取初始光刻胶模型的多个待优化初始参数；提供遗传算法模型对全部待优化初始参数进行迭代求解获得优化参数；提供适应度函数组，适应度函数组包括最小化误差函数，还包括允许误差损失函数、网格损失函数和系数损失函数中的至少一种；在迭代过程中，采用适应度函数组对全部优化参数进行评估获得每一优化参数的适应度值，在执行对优化参数的下一轮迭代时，以适应度值作为对应优化参数的优化权重；满足预设条件时，停止迭代并输出遗传算法模型最终求得的目标参数本发明提供的方法能够解决模型中存在的过拟合现象和一致性不佳的技术问题。
