长飞先进武汉碳化硅基地设备进场

日期:2024-12-19 阅读:251
核心提示:12月18日,据长飞先进官微消息,长飞先进武汉基地项目首批设备搬入仪式于光谷科学岛举办。据介绍,长飞先进武汉基地项目本次搬入

12月18日,据长飞先进官微消息,长飞先进武汉基地项目首批设备搬入仪式于光谷科学岛举办。 

据介绍,长飞先进武汉基地项目本次搬入的设备涵盖芯片制造各个环节,包括薄膜淀积、离子注入、光刻、刻蚀等。目前,长飞先进武汉基地项目正推进建设并对设备进行安装调试,预计2025年5月实现量产通线。据长飞先进官微此前消息,长飞先进武汉基地主要聚焦于第三代半导体功率器件研发与生产,项目总投资预计超过200亿元,占地面积约22.94万㎡,建筑面积约30.15万㎡,主要建设内容包括晶圆制造厂房、封装厂房、外延厂房、动力厂房、成品库、综合办公楼、员工宿舍以及生产配套用房设施等。项目投产后可年产36万片碳化硅晶圆及外延、6100万个功率器件模块,广泛应用于新能源汽车、光伏、储能、充电桩等领域。

 

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