9月20日上午，宁波润平电子材料有限公司控股企业——宁波平恒电子材料有限公司的半导体芯片制造用CMP抛光液项目正式投产。
据悉，该项目主要生产氧化铈抛光液、金属钨抛光液、氧化物抛光液、多晶硅抛光液四大类产品，其中的多晶硅抛光液，从抛光颗粒到最终产品，实现了全链路100%国产化，对保障中国半导体材料产业链的安全和稳定具有重大意义。
“我们常说的5纳米、3纳米芯片，背后其实就离不开抛光液。”宁波润平电子材料有限公司董事长惠宏业指着实验室内庞大的生产设备，自豪地说道。
在半导体芯片的制造过程中，半导体硅片（以下简称晶圆）会历经刻蚀、离子注入等多重工艺步骤。经这些工艺处理后，晶圆表面会变得凹凸不平，并产生多余的表面物。为了实现晶圆表面的平坦化，就需要借助专用设备对晶圆进行多次抛光处理。这一过程被业界称为CMP，即化学机械抛光。在此过程中，抛光液作为不可或缺的重要材料，对提升最终芯片的性能起着至关重要的作用。“我们的产品采用了先进的纳米颗粒技术，具备高纯度、高稳定性等特点，各项抛光性能全面对标国际主流产品。”惠宏业提到。
据了解，CMP抛光液在国际市场上长期被美国和日本的相关企业所垄断，特别是在2008年以前，我国约90%的抛光液都依赖于进口。“对采购商来说，国产CMP抛光液不仅有更明显的价格优势，还意味着更安全的供应条件，能够实现长期稳定的供应。
”惠宏业说。经过多家客户技术验证，润平电子已于今年7月获得了首张量产订单。“预计该项目今年产值能达3000万，接下去在满产的情况下，全年能实现3亿的产值。”惠宏业对未来充满信心，“我们始终把创新作为企业发展的‘终极动力’，CMP抛光液项目只是一个新的起点。”
作为宁波阳明工业技术研究院培育的企业，该公司先后获评国家科技型中小企业、浙江省科技型中小企业等称号，抛光液项目成功入选宁波市“2022年甬江人才计划”和余姚市“2021年姚江英才计划”。目前，该公司研发团队已吸纳多位CMP抛光材料领域的国内外专家，累计申请专利105项，已授权32项，其中发明专利6项、实用新型专利26项，拥有核心自主知识产权。
