豪纬集团申请一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法专利,有效提高微纳结构中有源层的发光效率

日期:2024-08-13 阅读:246
核心提示:天眼查知识产权信息显示,江苏豪纬交通集团有限公司申请一项名为一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法,公开号 CN20

天眼查知识产权信息显示,江苏豪纬交通集团有限公司申请一项名为“一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法“,公开号 CN202410630653.1,申请日期为 2024 年 5 月。

专利摘要显示,本发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法,包括衬底准备、前置工艺、外延工艺与后续工艺,所述前置工艺用于在衬底上沉积绝缘层,通过绝缘层之间形成微米孔洞阵列,所述外延工艺用于在形成的微米孔洞中外延生长形成微纳结构。本发明采用自下而上的选区外延工艺,避免了干法刻蚀工艺,有效提高微纳结构中有源层的发光效率。与此同时,二次外延技术可以进一步提高晶体质量,进而提高芯片的电光转换效率。用前置工艺在外延微纳结构前沉积二氧化硅绝缘层,制备具有微米孔洞阵列的二氧化硅层,充当后续微纳阵列器件之间的绝缘层,该绝缘层厚度均一、填充性好,可以有效避免漏电流通道的产生。

 

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