据报导，全球顶级半导体研发公司之一的比利时微电子研究中心(IMEC) 宣布，其与ASML的联合实验室在电脑芯片制造方面取得多项突破。该实验使用的是ASML最新的高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)，该设备价值高达3.5 亿欧元(3.82 亿美元)。
IMEC表示，通过ASML先进设备High-NA EUV，已成功单次印刷出逻辑芯片和存储器芯片的电路，其尺寸一样小或小于目前商业生产中最先进的电路。
这一进展表明，领先的芯片制造商能够按照计划在未来几年内使用ASML最新设备制造出更小、运算速度更快的芯片。
IMEC执行长范登霍夫(Luc Van den hove) 声明表示：「High-NA EUV 对逻辑和存储技术的持续发展起到重要作用。」
IMEC 指出，芯片制造过程其余部分所需的许多其他化学品和工具也在该次测试内，而且似乎适合商业生产。
ASML是电脑芯片制造商最大的设备供应商，这要归功于其在光刻机(一种利用光束帮助制造电路的大型机器) 方面的主导地位。
高数值孔径极紫外光刻机有步骤更少且能印刷出更小电路，应该能替芯片制造商节省资金，还能证明该设备昂贵的价格是合理的。
路透本周一曾报导，英特尔将采购首批两台高数值孔径极紫外光刻机，第三台预估将于今年晚些时候交付给替英伟达和苹果生产芯片的台积电。
英特尔高层Mark Philips 在一封电子邮件中向路透表示：「第二台机器能用来支持开发生产线所需的晶圆数量与实验。」
此外三星电子、SK 海力士、美光等半导体企业也订购高数值孔径极紫外光刻机。
