光驰半导体原子层镀膜与刻蚀设备项目竣工

日期:2024-07-11 阅读:275
核心提示:光驰半导体技术(上海)有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。

近日,光驰半导体技术(上海)有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。

原子层镀膜与刻蚀设备项目项目位于宝山高新区07-17地块,总投资5.48亿元,占地面积50亩,总建筑面积6.44万平方米,其中一期建筑面积约3.8万平方米,涵盖标准厂房、研发办公楼等。项目主要致力新型电子元器件及设备制造,利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合,实现电子专用设备制造产业化、规模化。 

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