尚积半导体于近日成功交付了一批12寸PVD&CVD薄膜沉积设备给国内某头部客户，标志着尚积半导体的产品成功跻身12寸半导体产线。本次尚积半导体交付的设备配备了高精度温度、压力、功率及气流控制系统，确保沉积过程稳定可靠，成膜质量优异，产品性能、生产效率在行业内处于领先地位，可替代进口设备，并提供更优秀的工艺解决方案。
尚积半导体是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商。主营设备包括金属溅射沉积（PVD）、加强型等离子化学气相沉积（PECVD）、等离子干法刻蚀（ETCH）等，主要服务于功率器件、微机电系统、先进封装、化合物半导体、射频等领域的客户。据介绍，尚积半导体在半导体产业的多个领域实现薄膜溅射设备的首次国产化突破和进口替代，刻蚀设备、沉积设备陆续通过验证后交付，并获得大量订单。曾于2023年底顺利完成了数亿元规模的B轮融资。
