2024年4月9-11日，一年一度化合物半导体行业盛会——2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会（简称“JFSC＆CSE”）将于武汉光谷科技会展中心举办。睿励科学仪器（上海）有限公司将携新品亮相本届盛会，诚邀业界同仁莅临A316展台参观、交流合作。
本届CSE博览会由第三代半导体产业技术创新战略联盟、九峰山实验室共同主办，以“聚势赋能 共赴未来”为主题，将汇集全球顶尖的化合物半导体制造技术专家、行业领袖和创新者，采用“示范展示+前沿论坛+技术与商贸交流”的形式，为产业链的升阶发展搭建供需精准对接平台，助力企业高效、强力拓展目标客户资源，加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。
CSE作为2024年首场国际化合物半导体产业博览会得到了多方力量的大力支持，三大主题展区，六大领域，将集中展示各链条关键环节的新技术、新产品、新服务，将打造化合物半导体领域的标杆性展会。助力打造全球化合物半导体平台、技术、产业的灯塔级盛会，集中展示化合物半导体上下游全产业链产品，搭建企业发布年度新产品新技术的首选平台，支撑产业链及中部地区建设具有全球影响力的万亿级光电子信息产业集群。
睿励科学仪器（上海）有限公司是位于上海张江高科技园区的集成电路装备制造企业。公司成立于2005年，致力于开发、生产和销售具有自主知识产权及核心技术的集成电路芯片工艺检测设备，有深厚的技术历史底蕴，主要产品在集成电路芯片制造、LED、OLED、光通讯等领域都有广泛应用且都有相当的市占率。
产品介绍
光学膜厚量测设备
主要特点
l 适用于Si/SiC/GaN等集成电路制造前后道生产线，3D NAND制造生产线, DRAM制造生产线
l 可量测介质材料、半导体硅化物材料、超薄金属材料半导体薄膜的厚度、折射率和吸收系数
l 可测量晶圆衬底应力
l 量测范围覆盖10A~40um
l 0.1nm数量级的超精密量测
光学关键尺寸量测
主要特点
l 适用于集成电路制造前后道，3D NAND, DRAM等制造生产线
l 可应用于显影后检查（ADI）、刻蚀后检查（AEI）等多种工艺段的二维或三维样品的线宽、侧壁角度（SWA）、高度（Height）/深度等关键尺寸（CD）特征或整体形貌测量
l 可测量二维多晶硅栅极刻蚀（PO）、隔离槽（STI）、隔离层（Spacer）、双重曝光（Double Patterning）或三维连接孔（VIA）、鳍式场效应晶体管（FinFET）、闪存（NAND）等
l 具有高速、准确和非破坏性等特点
光学缺陷检测设备
主要特点
l 适用于LED、化合物半导体以及光通讯等领域
l 可检测缺陷类型：颗粒、污染、图形缺少、划伤、图形黏连、残留等
l 具备晶圆全表面检测、自动缺陷分类以及高分辨率的缺陷复查功能
值此之际，我们诚邀业界同仁共聚本届盛会，莅临展位现场参观交流、洽谈合作。
关于JFSC&CSE 2024
