2024年4月9-11日，一年一度化合物半导体行业盛会——2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会（简称“JFSC＆CSE”）将于武汉光谷科技会展中心举办。湖南兴晟新材料科技有限公司将携新品亮相本届盛会，诚邀业界同仁莅临A304展台参观、交流合作。
本届CSE博览会由第三代半导体产业技术创新战略联盟、九峰山实验室共同主办，以“聚势赋能 共赴未来”为主题，将汇集全球顶尖的化合物半导体制造技术专家、行业领袖和创新者，采用“示范展示+前沿论坛+技术与商贸交流”的形式，为产业链的升阶发展搭建供需精准对接平台，助力企业高效、强力拓展目标客户资源，加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。
CSE作为2024年首场国际化合物半导体产业博览会得到了多方力量的大力支持，三大主题展区，六大领域，将集中展示各链条关键环节的新技术、新产品、新服务，将打造化合物半导体领域的标杆性展会。助力打造全球化合物半导体平台、技术、产业的灯塔级盛会，集中展示化合物半导体上下游全产业链产品，搭建企业发布年度新产品新技术的首选平台，支撑产业链及中部地区建设具有全球影响力的万亿级光电子信息产业集群。
湖南兴晟新材料科技有限公司是一家专业从事高温、高纯、耐腐蚀材料研发及生产的高科技企业。在创新创业团队的紧密协作下，扎根涂层及陶瓷基复合材料二十余载，率先开发出适合于规模化生产的涂层制备技术与工艺装备。掌握了制造CVD SiC涂层、TaC涂层及陶瓷基复合材料等核心技术。公司为LED、光伏、半导体、冶金、电子等行业的MOCVD装备、单晶硅炉、PECVD炉、单晶SiC炉、单晶GaN炉及第三代半导体外延炉、氧化炉、离子注入机、刻蚀机等关键装备提供耐温、耐腐、高纯部件/耗材，并为用户产品质量优化、设备性能提升提供高温高纯材料/部件解决方案。
产品介绍
托盘基座：碳化硅外延设备用产品，高纯石墨+CVD SiC涂层，SiC涂层厚度100μm，石墨杂质含量≤5ppm，涂层杂质含量≤5ppm。
匀气环：硅外延设备用产品，高纯石墨+CVD SiC涂层，SiC涂层厚度100μm，石墨杂质含量≤5ppm，涂层杂质含量≤5ppm。
长晶环：碳化硅长晶用产品，高纯石墨+CVD TaC涂层，TaC涂层厚度30μm，石墨杂质含量≤5ppm，涂层有害杂质元素含量≤5ppm。
联系电话（TEL）：
0731-28100884
17742519565 李先生（Mr. Li）
13347319728邓先生（Mr.Deng）
Email：hnxs2015@126.com
网站：www.xs-hitechmaterials.com
地址：湖南省株洲市石峰区联城路79号轨道智谷三期3号厂房
值此之际，我们诚邀业界同仁共聚本届盛会，莅临展位现场参观交流、洽谈合作。
关于JFSC&CSE 2024
