半导体产业网消息，近期，特殊化学品公司朗盛研发出一种新型混床树脂，用于半导体生产中的超纯水。与已有的Lewatit UltraPure 1296 MD混床树脂相比，新型UltraPure 1296 MD PLUS混床树脂的铁、锌和钠等金属含量更低。该产品作为半导体生产中的终端抛光过滤器，其早期安装结果已接近目前的分析检测极限。
（图片来源：朗盛提供）
朗盛将在UltraPure Micro会议上向专业观众展示其新型离子交换树脂。该会议于2023年10月10日至12日在美国得克萨斯州奥斯汀举行。朗盛液体净化技术业务部技术营销经理Hans-Juergen Wedemeyer表示："在德国生产的Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS离子交换树脂对国际上蓬勃发展的半导体行业而言，是实现低成本、可持续和无故障生产的重要组成部分。
半导体和显示器的生产需要进行复杂的水处理，以确保所用的水达到要求的纯度。因此，最新一代的晶片和微芯片对所使用的离子交换树脂系统的质量要求也相应更高。此外，新的分析系统能够分析低 ppt（万亿分之一）范围内的离子。对于某些类型的离子，它们可以达到ppq（千万亿分之一）范围。要达到现代工业所需的半导体性能，可能需要多达 200 个处理步骤。为此所需的超纯水是通过复杂的多级工艺提供的。操作过程中最重要的步骤包括使用标准离子交换树脂进行常规一级脱盐、反渗透、脱气、超滤和过氧化氢去除，而最后一个阶段则是使用超纯混床树脂进行终端抛光。新型 Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS 离子交换树脂就是为这最后一步专门研发的，它对整个工艺的成功至关重要。
这样处理后的超纯水可用于微芯片生产中的蚀刻和清洗过程。Wedemeyer 说：“阴离子和阳离子交换树脂的总容量大，再生能力强，因此在去除硼、二氧化硅以及金属离子方面也具有出色的运行能力。”Wedemeyer 补充说：“单分散成分的微珠尺寸设计可避免阴阳离子交换树脂意外分离。由于 Lewatit UltraPure 1296 MD PLUS离子交换树脂采用了特殊的生产工艺，微粒和 TOC 的释放量极低。”
