俄罗斯圣彼得堡理工大学（SPbPU）的研究人员开发了一种国产光刻复合设备，用于利用蚀刻生产无掩模芯片，这对于俄罗斯微电子实现自给自足至关重要。其中一种设备的成本为500万卢布（4.95万美元），另一种设备的成本未知。
该综合体由两种设备组成。第一个设备专为“无掩模纳米光刻”而设计，它无需掩模即可将图像投影到基板上。第二个设备建立在第一个设备制作的基板图案基础上，负责利用蚀刻形成纳米结构。此外，该装备可以为船舶超压传感器等应用制作硅膜。值得注意的是，这些膜被认为比其他方法生产的膜更可靠、更灵敏。
目前，俄罗斯芯片生产仅限于65nm工艺技术。与此同时，全球标准已经缩减至3nm工艺。另外值得注意的是，下诺夫哥罗德应用物理研究所（IAP RAS）的目标是开创一种能够生产7nm芯片的光刻技术，尽管要等到2028年才能实现。为了推动这一势头，俄罗斯工业贸易部已投资11亿卢布用于开发微电子专用光刻材料。
除了制造芯片或硅膜之外，这两种设备还可以使其他行业受益匪浅。例如，它们可以将雷达设备的使用寿命延长20倍以上。在绿色能源领域，这些设备可以使太阳能电池板小型化，使其更轻并提高其效率。
开发人员对他们的发明有着宏伟的愿景。他们正在考虑将人工智能（AI）融入这两台设备中，以增强它们的能力。然而，目前尚不清楚俄罗斯芯片制造商是否对这些设备感兴趣，也没有明确的时间表表明这些设备将何时投入实际生产中。
（来源：集微网）
