半导体产业网获悉，近日，在加快推进武汉具有全国影响力的科技创新中心建设暨湖北省科技创新大会上，2021年度湖北省科学技术奖励正式揭晓。其中，湖北大学叶葱教授团队存储器成果荣获自然科学奖二等奖。
该项目是省属高校在微电子领域中获批的唯一一项自然科学奖。项目成果聚焦下一代存储芯片，攻关集成电路核心技术，将大力促进湖北省“光芯屏端网”产业发展，服务地方经济的发展需求。
集成电路是国家重大战略需求，也是电子信息产业的基石。存储器在集成电路市场中占有重要份额，是解决集成电路卡脖子难题的关键技术。当前主流的存储技术闪存，在尺寸微缩过程无法有效存储电荷，因而各类新型存储受到科学家们的关注。其中，阻变存储器因具有诸多优点，成为最有潜力取代闪存的技术之一。
据湖北广电介绍，湖北大学叶葱教授及其团队长期致力于高K栅介质薄膜的可控生长及阻变存储器研究，取得系列突破：一是解决了高K介质薄膜生长过程中，介电性能和界面难以调控的问题；二是原位观测阻变存储器中氧空位的动态演变过程并揭示其阻变机理；三是发展了系列阻变存储材料及性能优化技术，实现高性能低功耗阻变存储器研制。
