半导体产业网获悉，日前，中国科学院上海高等研究院发布博士后研究人员招聘启事，应聘人员入站后将参与Sub-7nm先进集成电路器件同步辐射表征及应用研究等课题。
公开信息显示，“面向Sub-7nm先进工艺节点集成电路核心器件的同步辐射表征技术及应用”为国家重点研发计划“大科学装置前沿研究”2021年度立项项目，由上海高研院牵头，项目实施周期5年，这则招聘启事或显示研发项目已获实质性启动。
另有南开大学信息显示，该校讲席教授罗锋也已承担相应课题，开展极紫外光刻技术光刻胶合成制造与刻蚀评估，公司合作方包括了中芯旗下北方集成电路创新中心和北京超弦存储器研究院。
