晶盛机电:中试线产出的6英寸碳化硅衬底达到或者优于业内技术水平

日期:2022-02-28 来源:半导体产业网阅读:531
核心提示:碳化硅衬底制作的技术门槛较高,良率低,成本较高制约其发展,导致行业的整体产能远不及市场需求。
   2月24日,晶盛机电(300316)发布公告称:碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,具有高禁带宽度、高电导率、高热导率等优越物理特征。碳化硅衬底是宽禁带半导体的核心材料,以其制作的器件具有耐高温、耐高压、高频、大功率、抗辐射等特点,具有开关速度快、效率高的优势,可大幅降低产品功耗、提高能量转换效率并减小产品体积。主要应用于以5G通信、航空航天为代表的射频领域和以新能源汽车、“新基建”为代表的电力电子领域,具有明确且可观的市场前景。
 
  碳化硅衬底制作的技术门槛较高,良率低,成本较高制约其发展,导致行业的整体产能远不及市场需求。公司的技术优势主要体现在:
 
  ①持续的设备研发能力。公司是国内晶体生长设备龙头,同时深耕半导体大硅片加工设备领域多年,公司的晶体生长设备及加工设备均主要使用自研设备,公司不断进行调试、提升设备性能,促进设备和工艺的高效融合。
 
  ②丰富的硬脆材料加工经验。碳化硅与蓝宝石在加工技术上具有较强的技术通用性。公司在硅和蓝宝石材料的切割、研磨、抛光等关键设备上均有较强的技术基础,已在半导体硅材料和蓝宝石加工设备领域得到市场认可。
 
  ③成熟的规模化长晶经验。公司长期围绕硅、蓝宝石和碳化硅三种晶体材料开展业务,在热场设计、热场仿真和工艺研发方面具有丰富的经验。公司在蓝宝石领域已具备上千炉台集中控制的大规模生产经验优势,产品具有优良的品质稳定性和低成本优势,可移植到碳化硅衬底材料的生产中。
 
  ④主要技术指标达到或优于业内技术水平。目前公司中试线产出的6英寸碳化硅衬底在直径、多型面积、电阻率、弯曲度和翘曲度均达到业内指标范围,衬底片总厚度变化率(TTV)可稳定达到<3μm,微管密度(MPD)可稳定达到<0.2/cm2,达到或者优于业内技术水平。
打赏
联系客服 投诉反馈  顶部