里程碑!通快第200台EUV光刻机光源已发货

日期:2022-02-16 来源:OFweek阅读:400
核心提示:据悉,德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。
据悉,德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。
图片来源:通快
 
EUV光刻机需求旺盛:通快、ASML业绩均增长
 
通快集团披露的财务数据显示,2021财年(2020年7月1日-2021年6月30日),通快在EUV业务领域实现了5.3亿欧元的销售额,占总销售额的13.5%。通快预计,在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。目前,通快EUV业务领域已提供超过1500个工作岗位。
 
而全球唯一的EUV光刻机供应商不久前也披露了最新的财报。2021年ASML全年净销售额达186.11亿欧元,同比增长33.1%;净利润为58.83亿欧元,同比增长65.5%。其中,EUV光刻系统便贡献了63亿欧元的收入,较2020年增加了18亿欧元(增长40%)。
 
 
历年ASML EUV光刻机出货量
 
维科网·激光 制图
 
近年来,ASML销售的EUV光刻系统数量持续增长。从2015年第一台EUV光刻机出货,到2021年,ASML已成功交付42套EUV光刻系统。ASML表示,随着芯片制造工艺愈加先进,预计未来逻辑芯片、DRAM都将采用EUV技术制造,未来EUV光刻机的需求仍持续增长。在现有条件下,预计2022年将产出55台EUV光刻系统,EUV系统的收入也将增长25%。
 
三强联手 攻克EUV光刻最大挑战
 
EUV光刻是光刻机发展的第五代技术,也是目前最先进的技术。前四代光刻机使用都属于深紫外光(准分子激光器产生UV激光束),但在摩尔定律的推动下,半导体产业对于芯片的需求已经发展到5nm,甚至是3nm,浸入式光刻面临更为严峻的镜头孔径和材料挑战。可将最小工艺节点推进至5nm、3nm的第五代 EUV光刻机成了半导体行业不可或缺的重磅武器。
 
EUV光刻最大的挑战之一是如何产生波长极短的13.5nm的光,这需要将等离子体加热到接近22万摄氏度(几乎是太阳平均表面温度的40倍)。为实现这一点,荷兰ASML(光刻系统制造商)、德国Zeiss(镜头制造商)和德国Trumpf(光源制造商)紧密合作,通过多年努力最终研制出每秒可加工100多个晶圆的独一无二的CO2激光系统,攻克了这一难题。 

这套系统的工作过程为:锡发生器每秒发射5万滴锡珠,通过真空室并被激光脉冲击中。当激光脉冲击中锡珠时,锡珠被电离并产生高强度的等离子体,同时发出波长为13.5nm的EUV光。随后收集器收集EUV光,并通过反射镜将其输送到光刻机上,对晶圆进行雕刻。
 
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EUV激光系统由大约45万个零件组成,重约17吨,线缆长度超过7000米
 
图片来源:通快
 
为了产生能使锡珠电离的激光脉冲,德国通快集团基于其二氧化碳激光技术开发了一套独一无二的激光放大器,其核心组件包括高功率种子模块、高功率放大链路、光束传输系统、光学平台FFA等。在五个放大阶段中,该设备可提升一个较弱的激光脉冲超过10000次,输出的激光脉冲超过3万瓦的平均脉冲功率,脉冲峰值功率可以高达为几兆瓦。
 
布局16年 通快成EUV光刻机光源独门供应商
 
实际上,通快在光刻激光发生系统上的投入已超过16年。早在2005年,通快便开始与全球领先的准分子激光器厂商——美国Cymer公司合作,并在2013年ASML收购Cymer公司后继续保持合作关系。在这段时间里,通快为此专门成立了一个独立的子公司——通快半导体制造激光系统公司(TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing),该子公司拥有超过500名员工,专门负责开发和生产EUV激光器。
 
2015年,ASML向通快订购了15台EUV光刻工具。自那以后,EUV光刻业务成了通快发展的重心之一,2016年至今的历年财报均强调EUV业务为通快集团业务作出了重大贡献。2017年,通快宣布成功收购Access Laser 85%的股权,后者建立早期专注研发CO2激光器,利用在定制激光器方面的强大知识,于2012年成为EUV市场的核心供应商。收购完成后,通快迅速加强EUV相关设备研发,一举成为ASML EUV光刻机光源的独门供应商。
 
凭借在 EUV 极紫外光刻方面的突出贡献,通快于2020年荣获了德国科学成就领域最高荣誉——德国未来奖,该奖项旨在表彰在技术、工程和生命科学领域取得的特殊成就。2020 年 11 月 25 日,德意志联邦总统弗兰克-瓦尔特-施泰因迈尔在柏林维尔蒂音乐厅向通快颁发了该奖项。
 
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通快参与研发的 EUV 光刻技术荣获 2020 德国未来奖
 
图片来源:通快
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