9月13-14日，“2021中国（南京）功率与射频半导体技术市场应用峰会（CASICON 2021）”在南京召开。本届峰会由半导体产业网、第三代半导体产业主办，并得到了南京大学、第三代半导体产业技术创新战略联盟的指导。
会上，奥趋光电CEO吴亮带来了“AlN/AlScN材料制备技术及其在5GRFFE滤波及功率器件等领域应用前景展望”的主题报告。报告结合AlN/AlScN的特性，AlN /AlScN的潜力应用，以及AlScN 的发展历程分享了最新进展。
报告指出，AlScN是5G RFFE BAW/FBAR/SAW滤波器最有前途的新材料，也有希望用于其他电力电子应用。AlN 在UV-LED等领域有很大的应用潜力。并分享了AlN/AlScN 晶体生长方法、PVT法制备AlN/AlScN晶体、基于 AlN 的 X 波段 HEMT（15W/mm 输出密度）等方法。
吴亮表示奥趋光电开发了一系列专利技术，解决了大型氮化铝生产中的关键难题，采用PVT法生产了世界上第一批60mm氮化铝晶片和晶圆，并规划世界上最大的2英寸氮化铝单晶衬底晶圆厂。奥趋光电开发了专有技术，在其上生长世界领先质量的AlScN薄膜具有低成本和可扩展性的硅/蓝宝石，并在SiC衬底上与领先合作伙伴合作。奥趋光电正与中国几家领先的无晶圆厂合作伙伴合作，以实现高性能FBAR/SAW满足5G行业日益增长的要求的过滤器。
嘉宾简介
吴亮，国际知名晶体生长工艺与模拟仿真科学家，有近20年半导体、光伏及各种单晶生长工艺研究、开发与研发领导经验。曾供职于英特尔技术发展有限公司、比利时FEMAGSoft SA（高级研发工程师、驻北京首席代表等）、苏州协鑫工业应用研究院有限公司（副院长，现协鑫中央研究院）、协鑫太阳能材料有限公司（总工程师）等，现任奥趋光电技术（杭州）有限公司CEO。
吴亮博士曾承担日本、德国、比利时等多家世界500强企业或政府组织在半导体材料领域的专业化合作研究，申请/授权国内国际专利50余项，在德国出版晶体生长专著一部，发表各种期刊/会议论文及各种国际/国内邀请报告100多篇/次）。
