彤程新材（603650）宣布，公司从实际生产经营需求出发，拟通过公司全资子公司-上海彤程电子材料有限公司（简称，彤程电子）在上海化学工业区内使用自筹资金6.9853亿元，投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”，项目预计于 2023年末建设完成。
据介绍，项目主要研究 ArF 湿法光刻胶工业化生产技术开发，通过建立标准化的生产及控制流 程，提升高端光刻胶的质量控制水平，实现 193nm 湿法光刻胶量产生产；同时，逐步建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台。
彤程新材称，根据公司发展战略，进一步深化公司在电子材料领域的业务布局，弥补国内光刻胶技术与全球先进水平的差距，研究ArF光刻胶，特别是193nm湿法光刻胶的工业化生产技术，确定193nm光刻胶工程化放大技术、标准的生产流程及质量管控体系，研发生产光刻胶高端产品。
ArF光刻胶涵盖的工艺技术很广，可用于90nm-14nm甚至7nm 技术节点制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等）。
