外媒:三星电子V1产线部分5nm制程产品良率依然低于50%

日期:2021-07-05 来源:半导体产业网阅读:313
核心提示:据Businesskorea报道,多名产业内部人士4日表示,三星电子最先进、位于京畿道华城厂的V1产线依然面临良率不佳的问题,部分5nm制
据Businesskorea报道,多名产业内部人士4日表示,三星电子最先进、位于京畿道华城厂的V1产线依然面临良率不佳的问题,部分5nm制程产品的良率依然低于50%。而通常来说,半导体制造商的生产良品率应该在95%以上。
 
三星华城V1产线是世界上首个用EUV技术生产7纳米以下半导体的产线,它从2020年2月份开始运营,并用于与台积电展开5纳米产品的竞争。
 
报道指出,三星华城园区共有V1、S3及S4等晶圆厂,其中V1为EUV专用厂,于2018年动工,2020年2月完工,是全球首座极紫外光(EUV)专用半导体厂,迄今累计投资至少20万亿韩元(约180亿美元)。
 
三星的华城厂V产线是世界第一条专门用极紫外光(EUV)微影技术生产7nm以下半导体产品的产线。然而,半导体业者业务表现最重要的是良率,整体而言,半导体生产业者的良率必须超过95%。但是,业内人士透露,部分5nm制程产品的良率依然低于50%。
 
值得注意的一点是,三星电子正与台积电5nm以下超微细制程竞争。当前部分5nm制程产品的良率依然低于50%的处境对三星很不利。
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