外媒：美光科技将引入极紫外光刻机

据国外媒体报道，在2021财年第三财季的财报分析师电话会议上，美光科技CEO兼总裁Sanjay Mehrotra透露，他们将引入极紫外光刻机。
 

从Sanjay Mehrotra在财报分析师电话会议上透露的消息来看，美光科技是计划2024年，在部分工艺节点部署极紫外光刻机，随后扩大到更多工艺节点。

 

Sanjay Mehrotra还表示，他们一直在关注极紫外光刻机的进展，他们其实也在评估引入极紫外光刻机。

 

事实上，美光科技此前就曾表示他们将引入极紫外光刻机。Sanjay Mehrotra在会上就提到，他们曾多次表示，当他们认为极紫外光刻机平台及生态系统变得更成熟的时候，他们就将在适当的时间点引入极紫外光刻机。

美光表示，计划从2024年开始，将EUV纳入DRAM开发路线图。另外，美光计划在今年年底安装ASML新一代EUV光刻机3600D。

 

值得注意的是，美光科技并不是首家引入极紫外光刻机的存储芯片制造商，SK海力士就已在他们的M16工厂安装极紫外光刻机，在2月份就开始试生产1anm的DRAM，预计在今年7月份开始大规模生产。