近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。
南大光电称，用于质量检测的光刻机等量测设备是国外进口的，公司已经配备了，运转良好，没有被卡的顾虑。主要原材料是自己开发和生产的，没有被卡风险。生产设备是联合国内企业研制的，也不存在被卡风险。
2020年底，南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，各项光学性能均达到商用胶的水平，可实现先进光刻胶的国产替代，产业化取得关键突破，拿到国产光刻胶的首个订单，实现小批量销售。
据介绍，目前公司光刻胶产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作，验证进展顺利。测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片。从目前测试结果看，ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平，并实现了ArF光刻胶国产化和本土化，打破了 被国外长期垄断的被动局面。
南大光电表示，公司研发并产业化的ArF光刻胶是国内最先进的光刻胶。 光刻胶项目今年的主要任务是完成主要客户认证，明年启动量产，力争尽早实现盈利。
在硅前驱体项目方面，南大光电仍在研发阶段。目前实验室建设已经基本完成，研发工作正按计划推进中，其中无氯TSA、3CDS两个产品研发取得重大突破，产业化已进入准备阶段。
在MO源行业方面，受LED行业的驱动，未来LED行业的发展机会也创造了MO源的增长空间；同时MO源在第三代半导体和新一代太阳能电池领域的应用也为行业带来了新的发展机遇。
南大光电称，公司2021年第一季度的扣非净利润增长245%，主要是因为三大半导体材料的布局基本完成，前驱体和电子特气业务发展迅速，MO源业务回升，光刻胶业务客户认证顺利推进。公司主营业务的增长趋势良好，可持续。
