据披露，SK海力士(SK Hynix)是韩国一家生产动态随机存取存储器芯片和闪存芯片的半导体供应商。海力士是全球第二大内存芯片制造商，仅次于三星电子之后。作为全球领先的半导体厂商，SK海力士在韩国利川与青州、中国无锡与重庆设有 四个生产基地，并在全球建立了四个研发中心与十个销售机构。
晶瑞股份表示，本次合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设 备的技术先进性和设备如期到位并投产，对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，有助于落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
超净高纯试剂实现国产化
据览富财经网了解，晶瑞股份是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。
其中，超净高纯试剂是控制颗粒和杂质含量的电子工业用化学试剂，在半导体行业被广泛应用于清洗和蚀刻工段的关键性材料，该类产品对于金属杂质含量的控制有着极其严苛的要求.
目前半导体用的主要高纯化学试剂品种有高纯硫酸、高纯过氧化氢、高纯氨水、高纯盐酸等。超净高纯试剂主要用于半导体、平板显示、LED、光伏太阳能电池等电子信息产品的清洗、蚀刻等工艺环节。
晶瑞股份在半导体材料方面布局的高纯双氧水、高纯氨水及在建的高纯硫酸等产品品质已达到或者可达到SEMI最高等级G5 水准，金属杂质含量均低于10ppt，高纯硫酸产品预计2020年实现投产后，半导体用量最大的三个高纯湿化学品将整体达到国际先进水平，可基本解决高纯化学品这一大类芯片制造材料的本地化供应.
公司目前已投产主导产品获得半导体头部公司、华虹宏力、长江存储等国内知名半导体客户的采购。另外，公司其他多种超净高纯试剂如BOE、硝酸、盐酸、氢氟酸等产品品质全面达到G3、G4等级，可满足平板显示、LED、光伏太阳能等行业的客户需求。
整体来看，晶瑞股份自2001年开始高端双氧水的研发和生产，自主开发了先进的提纯技术，并获得了发明专利。超大规模集成电路用超净高纯双氧水技术突破了国外技术垄断，产品品质可达到10ppt以下，满足SEMI制定的最高纯度等级，成功填补了国内空白。
光刻胶产品有30年生产经验
据了解，光刻胶是芯片工艺制造中的关键材料，其技术水平决定了半导体产品的技术规格和能力，技术原理是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成。
在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。
晶瑞股份的光刻胶产品由公司的子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红作为国内光刻胶领域的先驱，规模生产光刻胶近30年，产品主要应用于半导体及平板显示领域，产品技术水平和销售额处于国内领先地位。
苏州瑞红1993年开始光刻胶生产，承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，i线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF(248nm深紫外)光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25~ 0.13μm的技术要求，建成了中试示范线。
目前，公司紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线等高端产品已规模供应市场数十年，i线光刻胶近年已供应国内头部芯片公司，高端KrF(248)光刻胶处于中试阶段。同时，公司拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，实行符合现代电子化学品要求的净化管理，拥有国家02专项资助的一流光刻胶研发和评价实验室。
以人才技术谋求创新发展
令人关注的是晶瑞股份还拥有完善的研发体系、激励机制和实力较强的研发队伍，公司研发团队通过多年的研发积累，取得了一大批拥有自主知识产权并产业化的科研成果;先后主持了国家、省、市科技项目二十余项，参与起草了多项国家和行业标准。
在长期发展的过程中，公司重视技术人员的培养，多次派技术人员到德国、日本参观交流、培训学习，同时与国内多所知名高校、海内外研究所等单位开展技术合作。目前，公司已经具备为下游客户开发新产品的实力，具备以领先的工艺技术有效解决客户对产品功能性需求的实力。
另外，公司建有国内领先国际一流的分析检测实验室，配置有各类先进的分析检测仪器，目前实验室已通过中国合格评定国家认可委员会的审核，并取得了CNAS认证证书，为国内同行业中首家获得此认证的企业。
