天眼查显示，北京北方华创微电子装备有限公司“工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室”专利公布，申请公布日为2024年10月18日，申请公布号为CN118792637A。

本发明公开一种工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室，所公开的工艺气体喷嘴包括喷嘴主体（21）、第一凸起（22）和环状部（23），所述喷嘴主体（21）具有第一端（213）和第二端（214），所述环状部（23）环绕所述第二端（214）设置，所述第一凸起（22）设于所述喷嘴主体（21）上，并位于所述环状部（23）的朝向所述第一端（213）的一侧，所述第一凸起（22）背向所述环状部（23）的表面（222）与所述喷嘴主体（21）形成反向导流槽（04）。此方案能解决相关技术在对半导体工艺腔室的内壁进行清洁时存在清洁效果较差的问题。