据国外媒体报道，荷兰ASML公司是全球唯一能生产EUV光刻机的公司，作为半导体行业光刻系统供应商的ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机（EUV），调查公司Omdia表示，其中约一半面向大客户台积电。

ASML ASML此前公布，2019年，共向客户交付了26台极紫外光刻机。其中，在第四季度交付了8台。

ASML还透露，去年交付的26台极紫外光刻机中，有9台是最新型号，即NXE:3400C。

英国调查公司Omdia推测称，ASML去年交付的26台极紫外光刻机，大约一半面向台积电。

台积电2019年正式启动7nm产品的量产，这只能通过波长极短的EUV进行操作。资料显示，EUV光源波长比目前深紫外线微影的光源波长短少约15 倍，因此能达到持续将线宽尺寸缩小的目的。

在晶圆代工领域，台积电掌握了全球约一半份额。

另外，三星电子、英特尔等也采购了ASML的极紫外光刻机设备。

ASML服务的客户为全球主要的半导体制造商，打造在电力电子、通信和信息技术产品中广泛应用的芯片。

ASML公司总部位于荷兰的Veldhoven市。生产基地和研发设施则位于康涅狄格州、加州、中国台湾和荷兰。科技发展中心及训练设施位于日本、韩国、荷兰、中国台湾和美国。

ASML在阿姆斯特丹泛欧证券交易所和纳斯达克上市。周三收盘，ASML(NASDAQ:ASML)股价上涨2.2%至278.58美元，总市值约1169.51亿美元。

ASML将在2021年推第二代EUV极紫外光刻机

ASML在2019年出售26台EUV光刻机，主要为台积电、三星的7nm及2020年开始量产的5nm工艺，该公司预计2020年将出货35台EUV光刻机。

目前，ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm两种工艺。此外，NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。

不论NXE:3400B还是NXE:3400C，目前的EUV光刻机还是第一代，主要特点是物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。根据光刻机的分辨率公式，NA数字越大，光刻机精度还会更高，ASML现在还研发NA 0.55的新一代EUV光刻机EXE:5000系列，主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。

EXE:5000系列的下一代光刻机主要面向后3nm时代，目前三星、台积电公布的制程工艺路线图也就到3nm，2nm甚至1nm工艺都还在构想中，要想量产就需要新的制造装备，新一代EUV光刻机是重中之重。

根据ASML的信息，EXE:5000系列光刻机最快在2021年问世，不过首发的还是样机，真正用于生产还得等几年，乐观说法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻机上市。